☆ ☆☆☆☆考点21:表面活性剂的基本性质
1亲水亲油平衡值:表面活性剂分子中亲水基团和亲油基团对油或水的综合亲和力称为亲水亲油平衡值(HLB)。表面活性剂的HLB值越高,其亲水 性越强;HLB值越低,其亲油性越强。HLB值在15~18以上的表面活性剂适合用作增溶剂,HLB值在8~16的表面活性剂适合用作O/W型乳化剂, HLB值在3~8的表面活性剂适合用作W/O型乳化剂,HLB值在7~9的表面活性剂适合用作润湿剂。非离子型表面活性剂的HLB值具有加和性。
2胶团和临界胶团浓度:表面活性剂在溶液中开始形成胶团时的浓度称为临界胶团浓度(CMC)。临界胶团浓度的大小与其结构和组成有关,同时受温度、pH值以及电解质等外部条件的影响。
3起昙和昙点:某些含聚氧乙烯基的非离子型表面活性剂的溶解度开始随温度升高而加大,当达到某一温度时,其溶解度急剧下降,溶液出现浑浊或分 层,但冷却后又恢复澄清。这种由澄清变成浑浊或分层的现象称为起昙,该转变温度称为昙点。产生起昙现象的主要原因是此类表面活性剂分子结构中所含的聚氧乙 烯基与水分子形成的氢键在温度升高到昙点后断裂,从而引起表面活性剂溶解度急剧下降,出现浑浊或分层现象,当温度下降至昙点以下时,氢键又可重新形成。
4表面活性剂的毒性:阳离子表面活性剂的毒性一般较大,其次是阴离子表面活性剂,非离子表面活性剂的毒性相对较小。阳离子和阴离子的表面活性剂 还有较强的溶血作用,非离子表面活性剂的溶血作用比较轻微,其中聚山梨酯类表面活性剂的溶血作用通常较其他含聚氧乙烯基的表面活性剂更小。
☆ ☆☆☆考点22:常用的表面活性剂
1阴离子表面活性剂
(1)肥皂类:具有良好的乳化能力,但容易被酸破坏,碱土金属皂还可被钙、镁盐等破坏,电解质可使之盐析,具有一定的刺激性,一般只用于外用制剂。
(2)硫酸化物:常用的有硫酸化蓖麻油(俗称土耳其红油)和高级脂肪醇硫酸酯类(主要用作外用软膏的乳化剂)。
(3)磺酸化物:常用的有脂肪族磺酸化物和烷基芳基磺酸化物。
2阳离子表面活性剂:起表面活性作用的是阳离子。常用的有苯扎氯铵(洁尔灭)、苯扎溴铵(新洁尔灭)等。
3两性离子表面活性剂
(1)天然的两性离子表面活性剂:主要有豆磷脂和卵磷脂,常用的是卵磷脂。
(2)合成的两性离子表面活性剂:阴离子部分主要是羧酸盐,阳离子部分主要是胺盐或季铵盐。
4非离子表面活性剂
(1)脱水山梨醇脂肪酸酯:亲油性较强,常用作W/O型乳剂的乳化剂或O/W型乳剂的辅助乳化剂。
(2)聚氧乙烯脱水山梨醇脂肪酸酯:商品名为吐温类。常用的有:吐温20(聚山梨酯20)、吐温40(聚山梨酯40)、吐温60(聚山梨酯60)、吐温80(聚山梨酯80)、吐温85(聚山梨酯85)等。
(3)聚氧乙烯脂肪酸酯:常用作O/W型乳剂的乳化剂。常用的有聚氧乙烯40硬脂酸酯。
(4)聚氧乙烯脂肪醇醚:常用的有西土马哥、平平加O及埃莫尔弗等。
(5)聚氧乙烯聚氧丙烯共聚物:常用的有普朗尼克类,如普朗尼克F-68等。
☆☆考点23:增加药物溶解度的方法
1增溶
(1)增溶原理:表面活性剂在水溶液中的浓度达到临界胶团浓度(CMC)以上,一些水不溶性或微溶性物质在胶团溶液中的溶解度显著增加,形成透明胶体溶液,称为增溶。
(2)影响增溶的因素
①增溶剂的性质、用量及使用方法:增溶剂的种类不同,其增溶量亦不同,即使是同系物的增溶剂,也因相对分子质量的不同而产生不同的增溶效果。同系物增溶剂的碳链越长,其增溶量也越大。对极性或中等极性药物而言,非离子表面活性剂的HLB值越大,其增溶效果越好。
②被增溶药物的性质:药物的相对分子质量越大,被增溶量通常越小。
③溶液的pH值及电解质:溶液的pH值增大,有利于弱碱性药物的增溶;溶液的pH值减小,有利于弱酸性药物的增溶。溶液中加入电解质,能使被增溶 药物的溶解度增加,其原因是电解质能够降低增溶剂的临界胶团浓度,从而使增溶剂在较低的浓度时形成大量胶团而产生增溶作用;另外电解质还可中和胶团的电 荷,增大了胶团内部的有效体积,为被增溶药物提供更多的空间,从而提高增溶效果。
④温度:影响胶团的形成;影响被增溶物质的溶解;影响表面活性剂的溶解度。
2助溶:一些难溶于水的药物由于第三种物质的加入而使其在水中溶解度增加的现象,称为助溶。加入的第三种物质称为助溶剂。难溶性药物与助溶剂形成可溶性络合物、有机分子复合物以及通过复分解反应生成可溶性盐类而产生助溶作用。
3制成盐类:一些难溶性弱酸、弱碱类药物,可制成盐类而增加溶解度。
☆ 考点24:溶液型液体药剂
溶液型液体药剂系指药物以分子或离子形式分散于分散介质中形成的供内服或外用的均相液体制剂。属于溶液型液体药剂的有溶液剂、糖浆剂、芳香水剂、醑剂、甘油剂等。
1溶解法:将药物溶解于处方总量3/4的溶剂中,滤过,自滤器上添加溶剂至全量,搅匀即得。
2稀释法:将药物先制成高浓度溶液或易溶性药物的浓贮备液,再用溶剂稀释至所需浓度的溶液。溶液剂制备时应注意:①处方中若含有增溶剂、助溶 剂、pH调节剂、防腐剂、抗氧剂等附加剂,应先加入溶剂后再加入药物;②某些溶解缓慢的药物,在溶解过程中应采用粉碎、搅拌、加热等措施;易氧化的药物溶 解时,宜将溶剂加热放冷后再溶解药物,同时应加适量抗氧剂;③易挥发性药物或不耐热药物应在最后加入,以免因制备过程而损失。
☆ ☆考点25:高分子溶液、溶胶剂
1高分子溶液:高分子化合物如胃蛋白酶、右旋糖酐、明胶、阿拉伯胶、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、羧甲基纤维素钠等,以单分子形式分散于分散介质中形成的均相体系称为高分子溶液,又称为亲水胶体,为热力学稳定体系。
2溶胶剂:分散相质点以多分子聚集体(胶体微粒)分散于分散介质中形成的胶体分散体系称为溶胶剂,又称为疏液胶体。溶胶外观澄明,但具有乳光,属于高度分散的热力学不稳定体系。
☆ ☆☆☆考点26:胶体溶液的稳定性
1高分子溶液:①脱水剂,如乙醇、丙酮等可破坏水化膜;②大量的电解质可因其强烈的水化作用,夺去了高分子质点水化膜的水分而使其沉淀,这一过程称为盐析。
2溶胶:溶胶胶粒上形成的厚度有1~2个离子的带电层,称为吸附层。在荷电胶粒的周围形成了与吸附层电荷相反的扩散层。这种由吸附层和扩散层构 成的电性相反的电层称双电层,又称扩散双电层。由于双电层的存在而产生电位差,称ξ电位。溶胶ξ电位的高低决定了胶粒之间斥力的大小,是决定溶胶稳定性的 主要因素。
(1)电解质的作用:电解质离子的电中和使扩散层变薄,ε电位降低,水化膜变薄,胶粒易聚集。
(2)高分子化合物对溶胶的保护作用:溶胶中加入一定浓度的高分子溶液,能显著地提高溶胶的稳定性,这种现象称为保护作用,形成的溶液称为保护胶体。
(3)溶胶的相互作用:带有相反电荷的溶胶互相混合也会产生沉淀。
☆ ☆☆考点27:影响混悬型液体药剂稳定性的因素
混悬型液体药剂系指难溶性固体药物一般以05~10/m范围粒径分散在液体介质中,混悬液属于粗分散体系,且分散相有时可达总重量的50%影响混悬型液体药剂稳定性的主要因素有:
1微粒间的排斥力与吸引力。
2混悬粒子的沉降:在一定条件下,混悬液中微粒的沉降速度符合stoke‘s定律。
由Stoke‘s定律可见,沉降速度υ与r2、(ρ1-ρ2)成正比,与η成反比。为了增加混悬液的稳定性,在药剂学中可以采取的措施有:①减小粒径;②增加分散介质黏度;③减小微粒与介质之间的密度差。
3微粒增长与晶型的转变:在尽可能减小微粒粒径,注意缩小微粒之间的粒径差。
4温度的影响:温度的改变常影响药物微粒的溶解与结晶过程,从而引起结晶长大、晶型转变。
☆ ☆☆☆☆考点28:混悬型液体药剂的稳定剂
混悬型液体药剂的稳定剂在分散体系中可起润湿、助悬、絮凝或反絮凝的作用。常用的稳定剂有以下几类:
1润湿剂:疏水性药物制备混悬液时,常加入润湿剂以利于分散。常用的润湿剂有聚山梨酯类、司盘类表面活性剂等。
2助悬剂:助悬剂能增加分散介质的黏度,使混悬液具有触变性,从而增加其稳定性。
常用的助悬剂有:①低分子助悬剂,如甘油、糖浆等。②高分子助悬剂。常用的天然高分子助悬剂有阿拉伯胶粉末(或胶浆)、西黄芪胶、琼脂等。常用的 合成高分子助悬剂有甲基纤维素、羧甲基纤维素钠、羟乙基纤维素、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇等。③硅酸类,如胶体二氧化硅、硅酸铝、硅皂土等。
3絮凝剂与反絮凝剂:加入适量的电解质可使混悬剂中微粒周围双电层所形成的ζ电位降低到一定程度,加入的电解质称为絮凝剂。
加入电解质后使ζ电位升高,阻碍微粒之间的碰撞聚集的现象称为反絮凝,能起反絮凝作用的电解质称为反絮凝剂,加入适宜的反絮凝剂也能提高混悬剂的 稳定性。同一电解质可因用量不同起絮凝作用或反絮凝剂作用,如枸橼酸盐、枸橼酸氢盐、酒石酸盐、酒石酸氢盐、磷酸盐和一些氯化物等。
☆ ☆☆☆考点29:乳化剂的种类及乳化剂的选择
1乳化剂的种类:常用乳化剂根据其性质不同可分为3类,即表面活性剂、高分子溶液以及固体粉末。其中固体粉末的乳化作用不受电解质的影响,常用 的亲水性固体粉末有氢氧化镁、氢氧化铝、二氧化硅、硅皂土等,乳化时可形成O/W型乳剂;亲油性固体粉末有氢氧化钙、氢氧化锌、硬脂酸镁等,乳化时可形成 W/O型乳剂。
2乳化剂的选择
(1)根据乳剂的类型选择。
(2)根据乳剂给药途径选择:口服乳剂所用乳化剂必须无毒、无刺激性。外用乳剂应选用无刺激性的表面活性剂。注射用乳剂应选择磷脂、泊洛沙姆等乳化剂。
(3)根据乳化剂性能选择:选择乳化性能强、性质稳定、受外界因素如酸、碱、盐等影响小、无毒无刺激性的乳化剂。
(4)选择混合乳化剂。
☆ ☆考点30:乳剂制备的注意事项及方法
1乳剂制备注意事项
乳剂中分散相的体积比应在25%~50%,根据乳剂的类型选择适合HLB值的乳化剂或混合乳化剂,注意调节乳剂的黏度和流变性,必要时加入适量抗 氧剂、防腐剂。乳剂中添加药物时,若药物能溶于内相或外相,可先溶于内相或外相中,然后制成乳剂;若药物不溶于内相也不溶于外相时,可用亲和性大的液相研 磨,再制成乳剂,也可以在制成的乳剂中研磨药物,使药物分散均匀。
2制备方法
(1)干胶法:适用于阿拉伯胶或阿拉伯胶与西黄芪胶的混合胶作为乳化剂的乳剂制备。
(2)湿胶法。
(3)新生皂法:如油相中硬脂酸与水相中三乙醇胺在一定温度(70℃以上)下混合时生成硬脂酸三乙醇胺皂,可作为O/W型乳化剂。本法适合于乳膏的制备。
(4)机械法。
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精华水就是化妆水的一种,精华水和普通的爽肤水区别很大,精华水的营养成分比较高、有高浓缩精华成分,质地也比较滋润,更适合干性皮肤使用。
直接用精华水可以吗
精华水可以代替爽肤水使用,但并不建议这么做,毕竟爽肤水与精华水的功效是不同的,所以二者最好不要代替使用,护肤这件事我们需要重视起来。精华水的营养成分比普通的化妆水、爽肤水要高很多,它的补水效果更强一些,能够改善皮肤干燥的情况,不过精华水并不适合所有人使用,虽然它修饰肌肤的效果比较强,但也有很多弊处。精华水由于营养过多,会给肌肤造成一定的压力,适合皮肤开始出现衰老的人群使用,或者皮肤过于干燥的人使用,年轻人并不适合使用精华水,毕竟年龄小的人,皮肤有自我调节的能力,如果水分过于充足,会引起不必要的肌肤问题,长痘痘就是最常见的情况,所以一定要了解使用功效和适合的人群,在选择适合自己的产品。而爽肤水与精华水不同,爽肤水适合每个人,爽肤水也可以迅速的为肌肤补充水分,还可以起到二次清洁的作用,对肌肤是百利而无一害,爽肤水需要搭配精华液使用,长期坚持护肤,便可以改善肌肤问题。
精华液和精华水的正确使用顺序
先用化妆水再用精华液。
1、洁面产品
护肤保养之前,清洁永远是第一步,不要小看清洁,非常重要。
2、化妆水
化妆水的作用在于再次清洁以恢复肌肤表面的酸碱值,并调理角质层,使肌肤更好地吸收,为使用保养品作准备。伊伊建议油性皮肤使用紧肤水,健康皮肤使用爽肤水,干性皮肤使用柔肤水,混合皮肤T区使用紧肤水,敏感皮肤选用敏感水、修复水。
3、肌底液
肌底液的作用是增加后续产品的吸收。应该用在化妆水之后,精华乳/霜之前。肌底液的营养成分能活化细胞,修复细胞,增加细胞活力以及防御能力,起着修复,导入的功能;同时大多含既亲水又亲油的成分,能将护肤品中的水分和油分同时瓦解,更好的被肌肤吸收;还配合有软化角质、滋润角质的成分,令角质层更容易吸收后续的保养成分。
4、眼霜
习惯在水之后乳霜之前先涂眼霜,但其实眼霜的顺序没多少关系。因为眼霜只抹在眼睛周围,乳液和面霜一类的东西则是需要避开眼睛周围的,两者的使用范围并不重叠,所以顺序看大家习惯了。
5、精华液
精华液一般有效成份浓度较高,有加强特殊目的的护理作用,让肌肤达到比较明显的护肤效果。精华的分子相对都很小,应在乳液和面霜之前使用,不然皮肤不能很好地吸收精华。
6、乳液或面霜
使用完精华后,就可以涂抹上乳液或者面霜,如果是油性肌肤就可以只使用乳液,若是干性肌肤可以使用面霜。乳液是水包油型的乳化剂,含水量较大,能为皮肤补充水分。还含有少量的油分,又可滋润皮肤。
过期的精华液变废为宝
过期的精华液可以用来洗澡、擦身体或是保养皮具,对已经过期的精华液可以当身体乳用,不过注意的是用前最好进行肌肤测试,避免身体上的皮肤受到伤害。精华液往往被存放在比面霜和乳液更小的容器里,这样它们可以在最短时间内被更快用完,减轻你对保质期的担心。
怎么看精华液有没有过期
你可以看他包装盒的生产日期和保质期。精华液保质期最多两年,尽管包装盒上通常标注三年。要知道,精华液中活性成分的最佳使用期限仅为出厂后半年。精华液会氧化。不过,即便如此,你使用超过两年的精华液也还是会见到一定效果,只是起效的速度和保养的成果不及更新鲜的产品。你还会留意到,精华液往往被存放在比面霜和乳液更小的容器里,这样它们可以在最短时间内被更快用完,减轻你对保质期的担心。
精华水和水乳的正确使用顺序是护肤水、精华、乳液,护肤水。
乳液的质地从稀薄到厚重的顺序分别为护肤水、精华、乳液,先用护肤水,可以促进皮肤对精华的吸收,确保精华到达肌肤底层,再使用精华,为皮肤提供养分,乳液具有保湿、锁水的作用,在精华之后使用乳液,可以深层滋润,并在肌肤表面形成一层保护膜。
乳液
乳化制品的黏度较低,在重力的作用下可倾倒,这样的乳化制品称为乳液或者奶液(lotion或milk)。皮肤的护理既需要保湿也需要赋脂,将油脂与水混合形成一个产品体系,通过乳化形成了乳霜。
护肤乳液是以保持皮肤、特别是皮肤最外面角质层中适度水分为目的而使用的化妆品。它的特点是不仅能保持皮肤水分的平衡,而且还能补充重要的油性成分、亲水性保湿成分和水分,并能作为活性成分的载体,使之为皮肤吸收,达到调理和营养皮肤的目的。产品使用范围很广。
——乳液
太阳能硅片表面等离子体清洗工艺
硅片表面残留颗粒的等离子体清洗方法,它包括以下步骤:首先进行气体冲洗流程,然后进行该气体等离子体启辉。 去除硅片表面颗粒的等离子体清洗方法过程控制容易,清洗彻底,无反应物残留,所霈工艺气体无毒,成本低,劳动量小,工作效率高。
等离子硅片清洗条件参数:
1、硅片表面残留颗粒的等离子体清洗方法,它包括以下步骤:首先进行气体冲洗流程,然后进行该气体等离子体启辉;所用气体选自02、Ar、N2中的任一种;气体冲洗流程的工艺参数设置为:腔室压力10-40毫托,工艺气体流量100-500sccm,时间1-5s;启辉过程的工艺参数设置为:腔室压力1040毫托,工艺气体流量100-500sccm,上电极功率250-400W,时间1-10s。
2、如1所述的等离子体清洗方法,其特征在于所用气体为02。
3、等离子体清洗方法,其特征在于气体冲洗流程的工艺参数设置为:腔室压力15毫托,工艺气体流量300sccm,时间3s;启辉过程的工艺参数设置为:腔室压力15毫托,工艺气体流量300sccm,上电极功率300W,时间Ss。
4、等离子体清洗方法,其特征在于气体冲洗流程的工艺参数设置为:腔室压力10-20毫托,工艺气体流量100-300sccm,时间1-5s;启辉过程的工艺参数设置为:腔室压力10-20毫托,工艺气体流量100-300sccm,上电极功率250-400W,时闾1-5s。
5、等离子体清洗方法,其特征在于气体冲洗流程的工艺参数设置为:腔室压力15毫托,工艺气体流量300sccm,时间3s;启辉过程的工艺参数设置为:腔室压力15毫托,工艺气体流量300sccm,上电极功率300W,时间Ss
说 明 书
等离子清洗涉及刻蚀工艺领域,并且完全满足去除刻蚀工艺后硅片表面残
留颗粒的清洗。
背景技术
在刻蚀过程中,颗粒的来源很多:刻蚀用气体如Cl2、HBr、CF4等都具有腐蚀性,刻蚀结束后会在硅片表面产生一定数量的颗粒;反应室的石英盖也会在等离子体的轰击作用下产生石英颗粒;反应室内的内衬( liner)也会在较长时间的刻蚀过程中产生金属颗粒。刻蚀后硅片表面残留的颗粒会阻碍导电连接,导致器件损坏。因此,在刻蚀工艺过程中对颗粒的控制很重要。
目前,常用的去除硅片表面颗粒的方法有两种:一种是标准清洗( RCA)清洗技术,另一种是用硅片清洗机进行兆声清洗。RCA清洗技术所用清洗装置大多是多槽浸泡式清洗系统。其清洗工序为:一号液( SC-1)(NH40H+H202)—,稀释的HF(DHF)(HF+H20)—,二号液( SC-2)(HCl+ H202)。其中,SC.1主要是去除颗粒沾污(粒子),也能去除部分金属杂质。去除颗粒的原理为:硅片表面由于H202氧化作用生成氧化膜(约6nm,呈亲水性),该氧化膜又被NH40H腐蚀,腐蚀后立即发生氧他,氧化和腐蚀反复进行,附着在硅片表面的颗粒也随腐蚀层而落入清洗液内。自然氧化膜约06nm厚,与NH40H和H202的浓度及清洗液温度无关。SC-2是用H202和HCL的酸性溶液,它具有极强的氧化性和络合性,能与未被氧化的金属作用生成盐,并随去离子水冲洗而被去除,被氧化的金属离子与CL-作用生成的可溶性络合物亦随去离子水冲洗而被去除。RCA清洗技术存在以下缺陷:需要人工操作,劳动量大,操作环境危险;工艺复杂,清洗时间长,生产效率低;清洗溶剂长期浸泡容易对硅片过腐蚀或留下水痕,影响器件性能;清洗剂和超净水消耗量大,生产成本高;去除
粒子效果较好,但去除金属杂质Al、Fe效果欠佳。
用硅片清洗机进行兆声清洗是将硅片吸附在静电卡盘( chuck)上,清洗过程中硅片不断旋转,清洗液喷淋在硅片表面。可以进行不同转速和喷淋时间的设置,连续完成多步清洗步骤。典型工艺为:兆声_氨水+双氧水(可以进行加温)_水洗_盐酸+双氧水-水洗_兆声一甩干。
用硅片清洗机进行兆声清洗的缺陷表现为:只能进行单片清洗,单片清洗时间长,导致生产效率较低;清洗剂和超净水消耗量大,生产成本高。
等离子清洗硅片表面颗粒原理:
等离子体清洗方法的原理为:依靠处于“等离子态”的物质的“活化作用,,达到去除物体表面颗粒的目的。它通常包括以下过程:a.无机气体被激发到等离子态;b.气相物质被吸附在固体表面;c.被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;d.产物分子解析形成气相;e.反应残余物脱离表面。
等离子体清洗方法,它包括以下步骤:首先进行气体冲洗(purge)流程,然后进行该气体等离子体启辉。
所用工艺气体选自02、Ar、N2中的任一种。优选地,所用工艺气体选
02。
以上所述的等离子体清洗方法,氕体冲洗流程的工艺参数设置为:腔室压力10-40毫托,工艺气体流量100-500sccm,时间1-5s;启辉过程的工艺参数设置为:腔室压力10-40毫托,工艺气体流量100-500sccm,上电极功率250-400W,时间1-10s。
优选地,气体冲洗流程的工艺参数设置为:腔室压力10-20毫托,工艺气体流量100-300sccm,时间1-5s;启辉过程的工艺参数设置为:腔室压力10-20毫托,工艺气体流量100-300sccm,上电极功率250-400W,时间1Ss。
更优选地,气体冲洗流程的工艺参数设置为:腔室压力15毫托,工艺气体流量300sccm,时间3s;启辉过程的工艺参数设置为:腔室压力15毫托,工艺气体流量300sccm,上电极功率300W,时间Ss。
等离子清洗硅片后效果:
本发明所述的去除硅片表面颗粒的等离子体清洗方法过程控制容易,清洗彻底,无反应物残留,所需工艺气体无毒,成本低,劳动量小,工作效率高。
附图说明
图1等离子体清洗前后的CD-SEM(关键尺寸量测仪器);
其中,CD: Criticaldimension关键尺寸。
图2等离子体清洗前后的FE-SEM(场发射显微镜);
其中,FE: field emission场发射。
图3等离子体清洗前后的particle(粒子)。
在进行完BT(break through自然氧化层去除步骤)、ME(Main Etch主刻步骤)、OE(过刻步骤)的刻蚀过程后,立即在ICP等离子体刻蚀机( PM2)中进行以下气体等离子体冲洗和启辉流程:首先,进行02的清洗过程,去除上一步的残留气体,腔室压力设置为15毫托,02流量为300sccm,通气时间为3s;然后,进行含有02的启辉过程:腔室压力设置为15毫托,02流量为300sccm,上RF的功率设置为300W.启辉时间为Ss。
采用本工艺有效去除了刻蚀工艺后硅片表面残留的颗粒。
在进行完BT、ME、OE的刻蚀过程后,立即在ICP等离子体刻蚀机( PM2)中进行以下气体等离子体冲洗和启辉流程:首先,进行Ar的清洗过程,去除上一步的残留气体,腔室压力设置为10毫托,Ar流量为100sccm,通气时间为Ss;然后,进行含有Ar的启辉过程:腔室压力设置为10毫托,Ar流量为100sccm,上RF的功率设置为400W,启辉时间为10s。
采用本工艺有效去除了刻蚀工艺后硅片表面残留的颗粒。
在进行完BT、ME、OE的刻蚀过程后,立即在ICP等离子体刻蚀机( PM2)中进行以下气体等离子体冲洗和启辉流程:首先,进行N2的清洗过程,去除上一步的残留气体,腔室压力设置为40毫托,N2流量为500sccm,通气时间为Ss;然后,进行含有N2的启辉过程:腔室压力设置为40毫托,N2流量为500sccm,上RF的功率设置为250W,启辉时间为10s。
采用本工艺有效去除了刻蚀工艺后硅片表面残留的颗粒。
南京世锋科技等离子研究中心 QQ283加5883加29
彩妆对皮肤或多或少都是具有一定得伤害的,但喜爱化妆的我们只能做到把危害降到最低,在需要的时候牺牲下,但一定要后面修护下,你的皮肤才不会受到伤害。这样皮肤就不会受伤啦,我是经常要化妆,但皮肤还是很好啊。我的方法: 1首先彩妆的选择一定要记住化妆品肯定是价格贵的对皮肤的危害越小,像眼影啦,睫毛膏,腮红唇彩,就忍下买贵点的反正这种都很经用的,我比较喜欢日本的品牌之春秀价格都在100~300之间 2化妆前要做的保护措施,我本人不涂粉底的个人认为就是慢性自杀因为粉底不管是物理性的还是化学性的对皮肤的伤害都很大,我用隔离霜代替,隔离霜本身作用就是隔离空气中的有害物质对皮肤的伤害,也可以隔离彩妆对皮肤的刺激,而且透气性好不会阻碍皮肤细胞的含氧量,也不容易阻塞毛孔,但如果你的皮肤是油性的建议用隔离液后再涂隔离霜,这样绝对不会出现油脂吸附隔离霜堵塞毛孔的现象推荐使用克丽缇娜的隔离霜《美白防晒加艳柔霜》美白防晒是190左右艳柔霜是130买5g,把它们调合在一起,具有双重防晒和隔离的效果,遮瑕也不错,感觉很好的。隔离液也推荐克丽缇娜的亲水性隔离液价格300快钱左右可以用一年多很耐用。 3卸妆液的选择,我建议选择温和的卸妆产品,比方适合敏感皮肤使用的都可以,但一定要选择卸妆油,因为彩妆防晒隔离一定要是卸妆油以油卸油的方法才能卸干净,推荐DHC的橄榄卸妆油,我用的感觉不错 4皮肤后期护理,我一半连续三天要是都化妆的话就会自己做保湿补水面膜,买成品自己贴很方便。如果皮肤状况本身就不是很好的可以两天做一次。 最后要注意的:彩妆防晒隔离一定不要在脸上停留超过6个小时,那样它们就被空气氧化啦发挥不了本来的作用,而且对皮肤伤害很大,。。。。希望你有认真看,对你有用哦,我打字打的很辛苦的。。
反渗透膜的短期保存
超滤短期保存方法适用于那些停止运行3天以下的超滤系统。短期保存操作的具体步骤如下:
1用给水冲洗超滤系统20-30分钟,最后用20ppm次氯酸钠的反冲超滤系统,使反渗透膜保存在含氯的溶液中。
2当膜元件及相关管路充满水后,关闭相关阀门,防止气体进入系统。
3每天按上述方法冲洗一次。
超滤长期保存方法适用于那些停止运行3天以上的超滤系统。长期保存操作的具体步骤如下:
1用给水冲洗超滤系统20~30分钟。
2用超滤产品水配制保存液,并用保存液冲洗超滤系统20~30分钟。凯能公司建议使用浓度为1%的NazS20;溶液作为反渗透膜的保存液。
3当膜元件及相关管路充满保存液后,关闭相关阀门使保存液保留于系统中,防止气体进入系统。
4每隔1周按上述方法更新保护液一次。
如果不是很清楚的话详细的可以看网页链接
夜晚护肤品的正确使用顺序方法
夜晚护肤品的正确使用顺序方法,其实我们的肌肤在不同的时刻状态是不相同的,面对护肤品的种类繁多很多人都感到烦恼,而且夜晚护肤对肌肤保养也很重要。以下夜晚护肤品的正确使用顺序方法。
夜晚护肤品的正确使用顺序方法11、晚上使用护肤品的顺序如下:卸妆>>洁面>>爽肤水>>眼霜>>精华>>乳液>>面霜。
如果需要更深层次的呵护,可以如下:卸妆>>洁面>>面膜>>水前精华>>爽肤水>>肌底液>>眼霜>>补水精华>>美白精华>>抗衰精华>>乳液>>面霜>>睡眠面膜。
2、白天使用护肤品的顺序如下:洁面>>爽肤水>>肌底液>>精华>>乳液>>面霜>>防晒霜。然后在此基础上进行化妆。
扩展资料
1、防晒霜千万一定要记得使用,肌肤防护工作必须要做好。在夏天我们出外一般选用SPF30左右的防晒产品即可,但如果是去海边,由于海边的紫外线十分强烈,涂抹的防晒产品要SPF50倍的。而冬季选择防晒指数较低的物理防晒霜。
2、清洁永远是护肤的首要步骤,不要小看清洁,认为清洁不重要,我们的皮肤遭受一天的污染及辐射,让你的皮肤上积累了太多的污垢,如果不彻底洁净,皮肤慢慢地就会变得干涩粗糙,没有彻底带走脏东西,那么毛孔也会越来越粗大
夜晚护肤品的正确使用顺序方法2白天和夜晚的护肤重点及技巧
晨间暖肌法:面膜敷脸
早晨的肌肤经过一夜的修护,处于最佳的状态,所以不需要太多的护理,只需要清洁掉这一夜分泌的过剩的油脂,外加补水就可以了。
很多MM,特别是油性肤质的MM会感觉清早起来,皮肤有些暗沉,那是皮肤严重缺水的表现。此时不妨用3~5分钟的时间做个面膜。
早上敷面膜不仅可以让肌肤格外明亮水润,还会更容易上妆。另外,你可以在未卸妆就入睡的次日清晨,使用面膜进行紧急修护,效果也十分不错哦。
TIPS:肌肤有自己的生物钟。晚上8点到11点,微细血管抵抗力最弱,也容易敏感,这个时候不宜敷面膜。
快速醒肤:夜间洗颜加强线条
卸妆很重要,不论你今天是化的浓妆还是淡妆,甚至是你今天没有化妆而仅仅是只涂了一层隔离,也要重视卸妆,而且不能只用一般的洁面乳洗洗算了。隔离霜这类彩妆属于亲油性彩妆,对肌肤有很强的附着力,用简单的亲水性洗面乳根本洗不干净。
所以,晚上所用的洗面奶最好选择泡沫型的,可以给脸部进行深层清洁。而早上起来,则可以换成比较温和的奶质洗面奶去除脸上一夜分泌的油脂就行了。
TIPS:为了让肌肤更洁净,有人提出晚上用洗面奶洗两遍的建议,这实在是太过误导。如果大家真的那样做,相信过不了多久,皮肤自身的保湿能力就会被破坏得一干二净,皮肤变得干燥而且敏感。
保养更精准:日霜VS晚霜
日霜和晚霜最大的区别在于它们被皮肤吸收的能力。日霜偏重隔离,像是给皮肤穿上一件防护外套,而晚霜则是皮肤的营养品,主要是修护、滋养作用。一般来说,25岁前可选择性质较柔和的'晚霜;25岁以上至40岁,皮肤刚开始衰老,可选择营养丰富的晚霜;40岁以上,可选择有加强修护和营养类的晚霜。
如果是油性肤质,皮肤油脂分泌过多的,请选择清爽型日霜;如果是混合性肤质,使用日霜时请避开T字区;如果是干性肤质,请选择干性皮肤专用日霜。在涂用时,如果稍加按摩,可以帮助皮肤更有效的吸收。
TIPS:很多人没有分日霜晚霜的习惯,这会造成很严重的后果。早上使用晚霜,尤其是在夏季,代谢旺盛的皮肤很可能因营养过剩造成毛孔受阻,皮肤变得晦暗无光泽后,还难逃青春痘和黑头粉刺的噩兆。
夜晚护肤品的正确使用顺序方法3夜晚皮肤,有什么不同
如果说白天的肌肤护理是保护皮肤不受紫外线或公害等外界环境的伤害,那么夜间可将重点放在寻找白天丢失活力的时间。夜间是对皮肤细胞的再生起到至关重要作用的时间。晚上我们身体的血液循环顺畅,细胞分裂活动旺盛,因此可以去除白天进入皮肤内部的杂质和毒素。
另外,夜间可促进性激素分泌,激活新陈代谢的运动,可以提高体内和体外的营养吸收功能。尤其,新陈代谢功能从晚10开始到凌晨2点之间更加活跃,因此不放过这个时机,进行彻底的管理,有助于维持富有弹性的光滑肌肤。
晚间护理,彻底贯彻各阶段
第1阶段:洁肤
不彻底去除白天的化妆和垃圾、皮脂、灰尘等,将影响到皮肤的呼吸,从而引发各种皮肤疾病,因此不能小看洁肤。利用洁肤霜或油卸装后,用泡沫洁面乳充分生成泡沫后洗脸。不要忘了用深层洁肤产品一周进行一两次毛孔内清洁。
1-1阶段:去死皮该阶段不是每天都进行,可以把它视为是洁肤衍生出来的过程。为进行完美的皮肤再生和提高皮肤护理产品的效果,应注意去死皮。死皮不仅会让皮肤显得粗糙,还会妨碍皮肤吸收含在皮肤护理产品里的有效成分。因此,与深层清洁一样,一周应进行一两次去死皮护理。
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