一般为004~005毫米,即40~50微米。1毫米等于1000微米。人的 头发粗 细各异,一般情况男的比女的 头发粗 。男性的一般在008--04毫米之间 女性的一般在004--02毫米之间。
小孩子的大概就在004毫米左右 成年以后的一般都在007毫米左右。通常直径在60微米以下称为细发,60~90微米为普通发,90微米以上为粗发。黄种人的头发一般比较粗,普通为80~90微米。
头发并不是器官,所以不含神经和血管,但含有细胞 。头发除了使人增加美感之外,主要用于保护头部。细软蓬松的头发具有弹性,可以抵挡较轻的碰撞,还可以帮助头部汗液的蒸发。一般人的头发约有10万根左右,在所有毛发中,头发的长度最长,尤其是女子留长发者。
有的可长到90~100cm,甚至150cm,但一般不会超出200cm。头发根部较粗,越往发梢处就越细,所以发径也有所不同,可分一般发、粗发、细发。
头发的形状 可分为直发、波浪卷曲发、天然卷曲发三种。直发的横切面是圆型,波浪卷曲发横切面是椭圆型,天然卷曲发横切面是扁形,头发的粗细与头发属于直发或卷发无关。
扩展资料:
一、头发护理:
1、洗发护发。在洗发时挑选质量较好的(碱性低的)洗发水洗发,然后用护发素加以维护,以保持头发质地柔软,疏松亮光,添加发花的结实性。
2、定时焗油。每隔一个月最佳对头发做一次焗油保养,在焗油保养时将焗油膏均匀抹在头发上,并使发花坚持疏松天然状况,
3、烫染分隔。烫发、染发最佳不要一起进行,由于烫发剂和染发剂都富含较多的化学成分,两层损伤,对头发损伤更大。在非染不行的情况下,将染发剂倒在头发上用手悄悄搓弄,切勿用梳子重复整理头发。
4、时刻距离。对新烫的发型不满意,有人会重烫一次或需求发型师帮她康复原样,殊不知,这样对头发的损伤极大。若实在想重来一次,两次烫发的时刻最佳距离半个月以上;而初次烫发的人,烫发时刻应尽能够缩短,一起与第2次烫发的时刻间隔半年以上为佳。
二、正确梳理头发:
1、梳头是保持美发不可缺少的日常修整之一。梳头可以去掉头发上的浮皮和脏物,还能刺激头皮,促进头部血液循环,防止头发因营养不良而造成的白发、黄发和脱发现象,使得头发柔软而有光泽;同时梳头还可消除用脑过度导致的头胀、麻木等。
2、梳头时,要注意清洁梳子,梳头只是让头发上的污垢转移了地方,如果把梳齿插进尼龙丝袜里来回梳十多下,你会发现污垢被吸附到尼龙丝上,这样才既可梳掉污垢,又可以保护梳子的清洁。
3、而用清水和柔软毛刷清洗,洗干净后立刻用毛巾轻轻擦干,再放在阴凉处自然晾干。如果发现梳齿弯曲不直,应当另换一把。
—头发
纳米(nm),又称毫微米,是长度的度量单位,1纳米=10-9米。
中文名
纳米
外文名
nm(nanometer)
其他名称
毫微米
作用
度量单位
基本含义 听语音
单个细菌用肉眼是根本看不到的,用显微镜测直径大约是五微米。假设一根头发的直径是005毫米,把它轴向平均剖成5万根,每根的厚度大约就是一纳米。也就是说,一纳米就是0000001毫米纳米科学与技术,有时简称为纳米技术,是研究结构尺寸在1至100纳米范围内材料的性质和应用。纳米技术的发展带动了与纳米相关的很多新兴学科。有纳米医学、纳米化学、纳米电子学、纳米材料学、纳米生物学等。全世界的科学家都知道纳米技术对科技发展的重要性,所以世界各国都不惜重金发展纳米技术,力图抢占纳米科技领域的战略高地。我国于1991年召开纳米科技发展战略研讨会,制定了发展战略对策。十多年来,我国纳米材料和纳米结构研究取得了引人注目的成就。
1毫米(mm) = 1000微米(um)
微米是长度单位,符号 [micron],读作[miu]1微米相当于1米的一百万分之一(此即为「微」的字义)。
0001 毫米(mm) = 1 微米(μm)
0000 1 厘米(cm) = 1 微米(μm)
0000 01 分米(dm) = 1 微米(μm)
0000 001 米(m) = 1 微米(μm)
扩展资料关于毫米的进率:
1毫米=01厘米;1mm=01cm=001dm=0001m=0000001km=1 000μm=1 000 000nm
长度单位是指丈量空间距离上的基本单元,是人类为了规范长度而制定的基本单位。其国际单位是“米”(符号“m”),常用单位有毫米(mm)、厘米(cm)、分米(dm)、千米(km)、米(m)、微米(μm)、纳米(nm)等等。长度单位在各个领域都有重要的作用。
参考资料:
超深亚微米集成电路和微机电系统的膜/基和多层异质膜结构及内导线结构所用材料尺度逐渐由微米级减小到亚微米甚至纳米级,即处于传统宏观与微观范畴之间的介观材料领域,其服役可靠性问题具有持久的挑战性材料性能的尺度效应,表面和界面效应及异质约束效应等愈加凸现,成为影响其可靠性的决定性因素之一因此,材料介观性能,特别是服役性能的正确表征成为关系到提高微器件设计制造水平和服役可靠性而亟待解决的关键问题 本项目以发展和建立材料若干介观性能表征的新理论,新方法为目标,重点进行材料介观性能表征及其尺度,表面/界面与异质约束效应的基础理论研究;主要包括:基于热力学参数尺度效应的材料介观性能基本参量表征,材料介观动态性能的特征与缺陷,形态的演化特性,介观力学性能的表面,界面与异质约束效应,材料驰豫/相变行为的介观效应,模型化薄膜材料器件在力/电/热多场耦合作用下的服役特性,损伤失效规律和可靠性及其评价指标
可以通过微米光的技术一次性治愈各种赘生物(如尖锐湿疣),或者是治疗宫颈柱状上皮外移糜烂面的修复。
微米光治疗仪的作用,微米光是一种新型光疗治疗仪,还有各种微量元素光元素,具有方向性好、穿透力强的优势。可以通过微米光的技术一次性治愈各种赘生物(如尖锐湿疣),或者是治疗宫颈柱状上皮外移糜烂面的修复。微米光可以在较短的时间内使病变组织部位的蛋白质固化,增强局部的免疫力,改善机体的免疫功能状态,促进局部组织的新陈代谢,还可以消炎消肿促进局部组织的愈合。
微米光治疗仪的作用,微米光是一种新型光疗治疗仪,还有各种微量元素光元素,具有方向性好、穿透力强的优势。可以通过微米光的技术一次性治愈各种赘生物(如尖锐湿疣),或者是治疗宫颈柱状上皮外移糜烂面的修复。微米光可以在较短的时间内使病变组织部位的蛋白质固化,增强局部的免疫力,改善机体的免疫功能状态,促进局部组织的新陈代谢,还可以消炎消肿促进局部组织的愈合。
摘 要 材料与结构在微纳米尺度展现了许多不同于宏观尺度的新特征,纳米技术已经成为当前科学研究与工
业开发的热门领域之一& 微小型化依赖于微纳米尺度的功能结构与器件,实现功能结构微纳米化的基础是先进的
微纳米加工技术& 文章对微纳米加工技术做了一个综合的介绍,简要说明了微纳米加工技术与传统加工技术的区
别& 在微纳米加工技术的应用方面提出了一些合理选择加工技术的原则,并对当前微纳米加工技术面临的挑战和
今后发展的趋势作了预测&
关键词 微纳米技术,微纳米加工,微系统技术,微小型化
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5 引言
当 5MNH 年 5E 月美国贝尔实验室的科学家发明
了世界上第一只晶体管,他们不会想到 F6 多年后的
今天,这场由晶体管引发的微电子技术革命已经深刻
地影响了现代社会的面貌& 由半导体微电子技术以及
由此引发的各种微型化技术除了成为现代高科技产
业的主要支柱之外,也深入到现代生活的所有领域,
尤其是所谓 O/ 领域,即消费类电子产品(+=,7’<39),
计算机(+=<#’"39)与通信(+=<<’,)+")=,)& 今天,功
能强大的笔记本计算机,品种繁多小巧玲珑的多功能
移动通信工具和花样翻新的家用电器已随处可见& 除
了集成电路之外,微型化技术导致了微系统的发展,
开发出直径只有 5<< 的微马达,指甲大小的微摄像
头,豌豆大小的气相色谱分析装置,芯片上的光学平
台和化学分析实验室等& 如果说集成电路芯片提供了
一个系统的思考与决策的大脑,微系统技术则以各种
微传感器与微执行器提供了系统的感官、手与脚& 系
统微型化成为今后现代工业发展的必然趋势& 如果按
微型化的尺度衡量,集成电路技术与微系统技术还属
于微米技术& 自 E5 世纪以来,由半导体微电子技术引
发的微型化革命进入了一个新的时代,这就是纳米技
术时代& 从微米到纳米的过渡不仅仅是量的过渡而且
·;:·
"# 卷($%%& 年)’ 期 ()):++,,,- ,/0- 12- 23
代表了质的跃迁- 材料与结构在 ’%%34 以下显现出不
同于宏观世界的性质- 纳米科技为人类展现了微观世
界的新天地- 从晶体管到集成电路,从微电子到微机
械与微流体,从微米技术到纳米技术,微纳米技术已
经成为当今高科技的代名词无论是集成电路技术,还是微系统技术或纳米
技术,其共同的特征是功能结构的尺寸在微米或纳
米范围,因此可以统称为微纳米技术- 微纳米技术依
赖于微纳米尺度的功能结构与器件- 实现功能结构
微纳米化的基础是先进的微纳米加工技术- 在过去
的 #% 年中,正是微纳米加工技术的发展促进了集成
电路的发展,导致集成电路的集成度以每 ’5 个月翻
一番的速度提高- 现代微纳米加工技术已经能够将
上亿只晶体管做在方寸大小的芯片上- 最小电路尺
寸为 6%34 的集成电路芯片已经开始大规模生产-
" 的集成电路芯片已开始小批量工业化生产,而
7#34 加工水平的集成电路已经在研发阶段- 除了集
成电路芯片中的晶体管越做越小,微纳米加工技术
还可以将普通机械齿轮传动系统微缩到肉眼无法观
察的尺寸- 微纳米加工技术可以制作单电子晶体管,
可以实现单个分子与原子操纵- 微纳米加工技术可
以建筑人类进入微观世界的桥梁,是人类了解和利
用微观世界的工具- 因此了解微纳米加工技术对于
理解微纳米技术,以及由微纳米技术支撑的现代高
科技产业是非常重要的-
$ 微纳米加工技术的分类
自人类发明工具以来,加工是人类生产活动的
主要内容之一- 所谓加工是运用各种工具将原材料
改造成为具有某种用途的形状- 一提到加工,人们自
然会联想到机械加工- 机械加工是将某种原材料经
过切削或模压形成最基本的部件,然后将多个基本
部件装配成一个复杂的系统- 某些机械加工也可以
称为微纳米加工- 因为就其加工精度而言,某些现代
磨削或抛光加工的精度可以达到微米或纳米量级但本文所讨论的微纳米加工技术是指加工形成的部
件或结构本身的尺寸在微米或纳米量级- 微纳米加
工技术是一项涵盖门类广泛并且不断发展中的技
术- 在 $%%7 年国际微纳米工程年会上,曾有人总结
出多达 &% 种微纳米加工方法- 可见实现微纳米结构
与器件的方法是多样的- 本文不可能将所有微纳米
加工技术一一介绍- 对这些加工技术的详细介绍目
前已有专著出版[’]
- 笔者在此仅将已开发出的微纳
米加工技术归纳为三种类型作概括性的介绍-
!- " 平面工艺
以平面工艺为基础的微纳米加工是与传统机械
加工概念完全不同的加工技术- 图 ’ 描绘了平面工
艺的基本步骤- 平面工艺依赖于光刻(/0)(89:1(;)
技术- 首先将一层光敏物质感光,通过显影使感光层
受到辐射的部分或未受到辐射的部分留在基底材料
表面,它代表了设计的图案- 然后通过材料沉积或腐
蚀将感光层的图案转移到基底材料表面- 通过多层
曝光,腐蚀或沉积,复杂的微纳米结构可以从基底材
料上构筑起来- 这些图案的曝光可以通过光学掩模
投影实现,也可以通过直接扫描激光束,电子束或离
子束实现- 腐蚀技术包括化学液体湿法腐蚀和各种
等离子体干法刻蚀- 材料沉积技术包括热蒸发沉积,
化学气相沉积或电铸沉积图 ’ 平面工艺的基本过程:在硅片上涂光刻胶、曝光、
显影,然后把胶的图形通过刻蚀或沉积转移到其他材料
平面工艺是最早开发的,也是目前应用最广泛
的微纳米加工技术- 平面工艺之所以不同于传统机
械加工是因为:(’)微纳米结构由曝光方法形成,而
不是加工工具与材料的直接相互作用- 所以限制加
工结构尺寸的不是加工工具本身的尺寸,而是成像
系统的分辨率,例如光波的波长,激光束,电子束或
离子束直径;($)平面工艺一般只能形成二维平面
·%$·
微纳米加工技术专题
!""#:$$%%%& %’()& +& +, 物理
结构,或准三维结构,而不是真正的三维系统& 平面
工艺形成的三维结构是通过多层二维结构叠加而成
的;()平面工艺形成的是整个系统,而不是单个部
件& 由于每个部件如此之小,根本无法按传统的先加
工分立部件然后装配成系统的途径& 所以系统中的
每个部件以及它们之间的关系是在平面加工过程中
形成的&
平面工艺产生于 /0 世纪 10 年代集成电路的开
发& 半导体晶体管由分立到集成就是基于平面工艺&
集成电路制造的平面工艺概括起来为 2 个基本方
面[/]
:
(3)薄膜沉积((456),7)& 包括各种氧化膜,多
晶硅膜,金属膜等& 金属连线,晶体管栅极,掺杂掩
模,绝缘层,隔离层,钝化层等是集成电路的基本组
成部分&
(/)图形化(#""56,),7)& 所谓图形化是在硅基
底和沉积的薄膜上形成各种电路图形& 这包括光刻
和刻蚀两个方面& 更确切地说,图形化是集成电路微
纳米加工的核心& 集成电路的结构是通过图形化实
现的& 集成电路发展的历史也是平面图形化技术不
断进步的历史&
()掺杂(89#),7)& 晶体管的载流子区通过掺
杂形成,掺杂包括热扩散掺杂和离子注入掺杂&
(2)热处理(,,5(),7)& 离子注入后通过热处
理可以恢复由离子轰击造成的晶格错位,热处理也
可以使沉积的金属膜与基底合金化,形成稳固的导
电层&
平面微纳米加工技术虽然主要应用于集成电路
制造,但近年来微系统技术中也大量应用平面工艺
制作各种微机械、微流体和微光机电器件等& 例如,
图 / 是美国 :;<=>; 国家实验室通过平面工艺制作
的多齿轮传动系统& 从表面来看,它与传统机械加工
形成的齿轮传动系统没有什么区别& 但这里的每个
齿轮的直径不超过 3& 即使当今最先进的精密机
械加工技术也无法制作这样微小的齿轮& 它是通过
多层多晶硅沉积与刻蚀形成的& 而且各个齿轮以及
它们的传动配合关系是通过巧妙的设计与硅平面工
艺的结合一次做成的& 微系统所需要的加工技术除
了没有掺杂工艺外与集成电路的平面加工技术基本
相同& 但由于某些微系统特殊功能的需要,其结构尺
寸一般远大于集成电路的结构尺寸& 因而产生了某
些适用于微系统的特殊平面工艺,例如厚胶曝光、电
铸工艺、硅深刻蚀工艺以及制作微光学元件的灰度
曝光工艺等&
图 / 美国 :;<=>; 国家实验室利用多层硅平面工艺
可见光的波长770~390纳米,光学显微镜的分辨率与照明光束的聚焦范围有密切联系。18世纪70年代,德国物理学家恩斯特阿贝发现,可见光由于其波动特性会发生衍射,因而光束不能无限聚焦。
根据这个阿贝定律,可见光能聚焦的最小直径是光波波长的三分之一,也就是200纳米。一个多世纪以来,200纳米的"阿贝极限"一直被认为是光学显微镜理论上的分辨率极限,小于这个尺寸的物体必须借助电子显微镜或隧道扫描显微镜才能观察。
扩展资料:
光学显微镜注意事项
一、正确安装的问题
使用显微镜前,首先要把显微镜的目镜和物镜安装上去。目镜的安装极为简单,主要的问题在于物镜的安装,由于物镜镜头较贵重,万一学生安装时螺纹没合好,易摔到地上,造成镜头损坏。
所以为了保险起见,强调学生安装物镜时用左手食指合中指托住物镜,然后用右手将物镜装上去,这样即使没安装好,也不会摔到地上。
二、正确对光的问题
对光是使用显微镜时很重要的一步,有些学生在对光时,随便转一个物镜对着通光孔,而不是按要求一定用低倍镜对光。转动反光镜时喜欢用一只手,往往将反光镜扳了下来。
所以教师在指导学生时,一定要强调用低倍镜对光,当光线较强时用小光圈,平面镜,而光线较弱时则用大光圈,凹面镜,反光镜要用双手转动,当看到均匀光亮的圆形视野为止。光对好后不要随便的移动显微镜,以免光线不能准确的通过反光镜进入通光孔。
三、正确使用准焦螺旋的问题
使用准焦螺旋调节焦距,找到物象可以说是显微镜使用中最重要的一步,也是学生感觉最为困难的一步。
学生在操作中极易出现以下错误:
一是在高倍镜下直接调焦;
二是不管镜筒上升或下降,眼睛始终在目镜中看视野;
三是不了解物距的临界值,物距调到2~3厘米时还在往上调,而且转动准焦螺旋的速度很快。前两种错误结果往往造成物镜镜头抵触到装片,损伤装片或镜头。
而第三种错误则是学生使用显微镜时最常见的一种现象。针对以上错误,教师一定要向学生强调,调节焦距一定要在低倍镜下调,先转动粗准焦螺旋,使镜筒慢慢下降,物镜靠近载玻片。
但注意不要让物镜碰到载玻片,在这个过程中眼睛要从侧面看物镜,然后用左眼朝目镜内注视,并慢慢反向调节粗准焦螺旋,使镜筒缓缓上升,直到看到物像为止,同时向学生说明一般显微镜的物距在1厘米左右。
所以如果物距已远远超过1厘米,但仍未看到物象,那可能是标本未在视野内或转动粗准焦螺旋过快,此时应调整装片位置,然后再重复上述步骤,当视野中出现模糊的物象时,就要换用细准焦螺旋调节,只有这样,才能缩小寻找范围,提高找到物象的速度。
四、物镜转换的问题
使用低倍镜后换用高倍镜,学生往往喜欢用手指直接推转物镜,认为这样比较省力,但这样容易使物镜的光轴发生偏斜,原因是转换器的材料质地较软,精度较高,螺纹受力不均匀很容易松脱。
一旦螺纹破坏,整个转换器就会报废。教师应指导学生手握转换器的下层转动扳转换物镜。
五、光学玻璃清洗的问题
光学玻璃用于仪器的镜头、棱镜、镜片等。在制造和使用中容易沾上油污、水湿性污物、指纹等,影响成像及透光率。清洗光学玻璃,应根据污垢的特点、不同结构,选用不同的清洗剂,使用不同的清洗工具,选用不同的清洗方法。
清洗镀有增透膜的镜头,如照相机、幻灯机、显微镜的镜头,可用20%左右的酒精和80%左右的乙醚配置清洗剂进行清洗。
清洗时应用软毛刷或棉球沾有少量清洗剂,从镜头中心向外做圆运动。切忌把这类镜头浸泡在清洗剂中清洗,清洗镜头时不要用力擦拭,否则会损伤增透膜,损坏镜头。
清洗棱镜、平面镜的方法,可依照清洗镜头的方法进行。
使用上述清洗剂也能清洗光学玻璃上的油脂性雾、水湿性雾和油水混合性雾,其清洗方法和清洗镜头的方法相似。
光学玻璃表面发霉,是一种常见现象。当光学玻璃生霉后,光线在其表面发生散射,使成像模糊不清,严重者将使仪器报废。
光学玻璃生霉的原因多是因其表面附有微生物孢子,在温度、湿度适宜,又有所需“营养物”时,便会快速生长,形成霉斑。对光学玻璃做好防霉防污尤为重要,一旦产生霉斑应立即清洗。注意干燥。
-光学显微镜
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